Hacia el modelado de material particulado fino en Santiago, Chile, mediante imágenes MODIS

Resumen

Este estudio exploró la capacidad que ofrece el producto de profundidad óptica de aerosoles (aerosol optical depth, AOD) creado diariamente desde imágenes MODIS (Moderate Resolution Imaging Spectroradiometer) adquiridas a las 10:30 AM y 1:30 PM hora local, para predecir las concentraciones superficiales de material particulado fino (MP_2,5), medidas en las estaciones de monitoreo de la ciudad de Santiago, Chile, durante los meses estivales del año 2016. Para esto, fueron realizadas correlaciones lineales entre ambas fuentes de datos, remotos y de terreno, calzados en tiempo y espacio, que permitieron dilucidar los días y estaciones donde MODIS-AOD puede ofrecer la mejor correlación. Considerando estos casos fue realizado un modelo de regresión lineal simple que permitió explorar la capacidad predictiva de MODIS-AOD. Las mejores correlaciones fueron consistentemente obtenidas cuando los datos MODIS-AOD creados a la 1:30 PM fueron considerados por estación a lo largo de todos los días muestreados en el período de interés. Al agrupar las estaciones de Cerro Navia, Quilicura y Pudahuel, el coeficiente de correlación fue 0,77, en tanto que el modelo de regresión explicó el 63% del comportamiento de las concentraciones superficiales de MP_2,5 y mostró una precisión de 69,1%. Los hallazgos de este estudio exploratorio constituyen una primera aproximación al modelado de las concentraciones superficiales de MP_2,5 en la ciudad de Santiago, con miras a ser robustecido a futuro, para con ello contribuir a prever alertas ambientales y ocurrencias de enfermedades relacionadas a la exposición del contaminante.